青岛福润德四管扩散炉行业领先

应 用：半导体集成电路及器件的扩散、氧化、合金、退火等工艺 工 艺：扩散（硼扩散、磷扩散等），氧化（干氧氧化、湿氧氧化-去离子水氧化、氢氧合成氧化等），退火，合金等等。 结 构：水平结构，垂直结构 晶圆规格：4"、5"、6"、8"; 太阳能电池为125×125、156×156 工艺管数：水平结构为1-4管，垂直结构为1管 产品类型：生产型，科研型（R&D-小型） 产品等级：普通级（一般性的科研与生产） 标准级（国际通行技术标准及质量等级，如IC制造等） 系统组成：主机（FURNACE）、气源柜（GAS/SOURCE CABINET）、 工作台（LOADSTATION-自动送片/净化）、计算机控制系统 设备可配套提供典型的工艺及配套解决方案 扩散/氧化炉系统的主要技术指标 炉管配置：1-4管/台 晶圆规格：4"、5"、6"、8" 炉体控制段：3/5段 恒温区长：760（800）mm / 1000mm 反应室配置：石英管/碳化硅管 加热体材料：KANTHAL APM/A-1 或相当 温度均匀性：800-1300℃ /±0.5℃ 300-900℃ /±1℃ 工艺温度范围：300-1300℃ 最大可控升温速度：15-20℃/min 最大降温速度：（1250～1000℃ ) 8℃/min 控制系统：工业计算机(10"-15"液晶屏) 送片系统：SiC悬臂/双石英杆 净化等级：100级或更好 净化：水平或垂直 送片速度：100mm-500mm/min 定位精度：2mm 气源气路：EP级316L管道1/4"或3/8" 阀门组件：SWAGELOK或相当 管道焊接：自动轨道焊接 工艺保证：提供典型的工艺