真空镀膜烧结炉

一、真空镀膜烧结炉用途： 真空镀膜烧结炉适用于稀土制备、电子照明、晶体退火、生物陶瓷、电子陶瓷、特种合金、磁性材料、精密铸造、金属热处理等行业进行真空烧结、气氛保护烧结、真空镀膜、CVD实验、物质成分测量等。 二、真空镀膜烧结炉参数 温度 最高温度:1100℃(<2小时) 工作温度:1000°C 最大升温速率:20℃/min 炉管 石英管 尺寸Φ25、Φ50×600mm可选加热区长度300mm 炉膛 采用国际优质氧化铝陶瓷纤维材质，具有保温效果优良，质轻耐高温，耐极冷极热，不裂缝，不结晶，不掉渣，不用担心污染所烧制产品，同时也可延长仪器使用寿命 功率 1.2KW（最大电流10A） 电压 AC220V50HZ 温度控制仪 PID控制和自整定功能. 30段可编程控制，可根据不同的客户需求来设定升降温程序. 设有超温及断偶报警. 控制精度:±1℃ K型热电偶 加热原件 高温合金电阻丝（含钼） 密封法兰 带铰链式法兰 进口的防腐型数字式真空显示计 可通多种气体（氧气、氮气、氩气、氢气等） 可选配 可另配与计算机通讯通过计算机操作电炉（启动电炉、停止电炉、暂停升温、设定升温曲线、升温曲线储存史曲线等） 注：可根据用户要求另行设计制造，更多规格及参数和详细技术方案请来电咨询。